芯片功耗的IR分析
电子元件2026-03-09
低功耗设计的重要性，从下图可窥一斑，随着工艺节点的推进演化，45nm工艺的动态功耗、静态功耗相比90nm工艺分别增加到了2倍、6.5倍。随着工艺节点演进到14nm、7nm等先进节点，Leakage Power的占比越来越高，Power
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