电子元件2026-03-12
Cascode CG低噪放电路设计
电子元件2026-03-12
MOS管的最常见应用—开关
电子元件2026-03-12
半导体行业之ICT技术介绍(四)
电子元件2026-03-09
所谓的键合SOI是使用两片晶圆,一片晶圆通过高电流氢离子注入在硅表面以下形成富氢层,另一片晶圆在硅表面生长二氧化硅层(见下图)。然后,两片晶圆面对面在高温下挤压并键合在一起,键合区域通过二氧化硅隔开。高
电子元件2026-03-09
前言 随着新能源汽车的热门,作为汽车配套充电桩也要求更快的充电速度。充电桩一般分为直流充电桩和交流充电桩,直流充电桩功率较大被叫做“快充”。快充要求对功率半导体的性能也提出了更高的要求,从高压功率
基于反型层电荷的模型
电子元件2026-03-09
01 BSIM5 BSIM5模型从基本的一维MOSFET物理学出发,推导出基本的电荷和通道电流方程,然后将其扩展到准二维和三维情况,包括短通道、窄通道、多晶硅耗尽和量子力学效应。
总电压采样电路中使用MOS作为开关的问题
电子元件2026-03-09
使用高压MOS作为开关,例如下图(来自于ADI官网)LTC2949的典型应用电路中,使用高压MOS作为绝缘检测的桥臂开关;选用高压MOS的原因是成本相对比光MOS要低。
电路中VCC、VDD、VEE和VSS的区别!
电子元件2026-03-09
画电路板的小伙伴可能经常遇到各种标号,今天就来分享一下电源相关标号的内容。
ESD防护电阻的妙用与失效分析
电子元件2026-03-07
无源器件在电路中一直扮演着很重要的角色,同样在ESD设计中也需要应用无源器件,亦或是无源器件也同样要承受ESD冲击。所以这一期针对无源器件:电阻在ESD设计中的应用与面对ESD的失效机理做一个讨论。
堆叠式DRAM单元STI和阱区形成工艺介绍
电子元件2026-03-05
在下面的图中较为详细的显示了堆叠式DRAM单元STI和阱区形成工艺。下图(a)为AA层版图,虚线表示横截面位置。下图(b)为AA刻蚀后的横截面;下图(c)为形成STI后的横截面;下图(d)显示了P阱形成后的横截面。STI和P阱形成
VRRP是什么?VRRP的作用和工作原理
时间:2026-06-05
32768晶振封装尺寸详解
时间:2026-06-05
静态路由是什么?静态路由如何配置?
时间:2026-06-05
一文详解光耦的作用与分类、使用技巧
时间:2026-06-05
热插拔是什么?热插拔有哪些特点?
时间:2026-06-05
深度解析电磁炉的工作原理与常见故障
时间:2026-06-04
介绍电流互感器的6种常见接线方法
时间:2026-06-04
VGA接口的详细解读和应用
时间:2026-06-04
物联网新兴薄膜技术
时间:2026-06-04
接触器的规格、原理结构、应用接线
时间:2026-06-04
电阻的单位
时间:2026-03-05
NVIDIA CPU+GPU超级芯片大升级!
时间:2026-03-09
贴片电阻怎么看阻值
时间:2026-03-05
电阻的原理和作用 电阻色环识别图 电路中电...
时间:2026-03-09
什么是硅片或者晶圆?一文了解半导体硅晶圆
时间:2026-03-09
什么是室温超导?半导体时代将走向结束?芯...
时间:2026-03-09
半导体光刻工艺 光刻—半导体电路的绘制
时间:2026-03-09
HTCC:半导体封装的理想方式
时间:2026-03-06
一文详解MOS管驱动电路拓扑的设计
时间:2026-03-09
石英灯电子变压器电路原理
时间:2026-03-06