电子元件2026-03-12
Cascode CG低噪放电路设计
电子元件2026-03-12
MOS管的最常见应用—开关
电子元件2026-03-12
半导体行业之ICT技术介绍(四)
电子元件2026-03-09
所谓的键合SOI是使用两片晶圆,一片晶圆通过高电流氢离子注入在硅表面以下形成富氢层,另一片晶圆在硅表面生长二氧化硅层(见下图)。然后,两片晶圆面对面在高温下挤压并键合在一起,键合区域通过二氧化硅隔开。高
电子元件2026-03-09
前言 随着新能源汽车的热门,作为汽车配套充电桩也要求更快的充电速度。充电桩一般分为直流充电桩和交流充电桩,直流充电桩功率较大被叫做“快充”。快充要求对功率半导体的性能也提出了更高的要求,从高压功率
基于反型层电荷的模型
电子元件2026-03-09
01 BSIM5 BSIM5模型从基本的一维MOSFET物理学出发,推导出基本的电荷和通道电流方程,然后将其扩展到准二维和三维情况,包括短通道、窄通道、多晶硅耗尽和量子力学效应。
总电压采样电路中使用MOS作为开关的问题
电子元件2026-03-09
使用高压MOS作为开关,例如下图(来自于ADI官网)LTC2949的典型应用电路中,使用高压MOS作为绝缘检测的桥臂开关;选用高压MOS的原因是成本相对比光MOS要低。
电路中VCC、VDD、VEE和VSS的区别!
电子元件2026-03-09
画电路板的小伙伴可能经常遇到各种标号,今天就来分享一下电源相关标号的内容。
ESD防护电阻的妙用与失效分析
电子元件2026-03-07
无源器件在电路中一直扮演着很重要的角色,同样在ESD设计中也需要应用无源器件,亦或是无源器件也同样要承受ESD冲击。所以这一期针对无源器件:电阻在ESD设计中的应用与面对ESD的失效机理做一个讨论。
堆叠式DRAM单元STI和阱区形成工艺介绍
电子元件2026-03-05
在下面的图中较为详细的显示了堆叠式DRAM单元STI和阱区形成工艺。下图(a)为AA层版图,虚线表示横截面位置。下图(b)为AA刻蚀后的横截面;下图(c)为形成STI后的横截面;下图(d)显示了P阱形成后的横截面。STI和P阱形成
RS485基本知识介绍
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