近年来碳化硅材料应用于电子设备技术有了长足的发展,碳化硅材料比通用硅有更突出的优点,这主要归功于碳化硅材料比通用的材料有更高的电场击穿电压、更快的电荷移动速度和更宽的能带间隙,且碳化硅材料导热能力是硅的2~3倍。用碳化硅制成的肖特基二极管具有正温度系数及反向恢复时间接近零的特点,使得在PFC电路(功率因数校正)上的MOSFET开通损耗减少,效率得到进一步的提升。 |
近年来碳化硅材料应用于电子设备技术有了长足的发展,碳化硅材料比通用硅有更突出的优点,这主要归功于碳化硅材料比通用的材料有更高的电场击穿电压、更快的电荷移动速度和更宽的能带间隙,且碳化硅材料导热能力是硅的2~3倍。用碳化硅制成的肖特基二极管具有正温度系数及反向恢复时间接近零的特点,使得在PFC电路(功率因数校正)上的MOSFET开通损耗减少,效率得到进一步的提升。 |
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