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（文章来源：电源网） X-FAB针对可携式模拟应用提供180nm优化的工艺。XP018工艺的多样选择以降低芯片的成本。这些选项是成本敏感的消费性应用与需要180nm技术、模拟集成的理想选择。X-FAB针对模拟电路设计降低XP018芯片成本有几个方面：新推出的单电压5V的选项移除了1.8V的部分以减少整体光罩的数量，对成本敏感的可携式应用提供有价值的回报。 适用于不同需求的金属绕线–一个新式的金属模块概念首次引入XP018平台–节省了设计成本。它允许MiM电容灵活地和其他金属层互相堆栈。最后，60V的金属边际电容(metalfringecapacitor)与1kohm的poly电阻简化60V供电环境中高电压应用的设计。 X-FAB高压产品线的产品营销经理SebasTIanSchmidt提到，“这项新工艺确实为我们的客户提供很大的效益。20层光罩的工艺是具有竞争力的，客户可以藉由180nm高密度的数字逻辑与5V、12V至50V的推挽驱动来建立他们的混合讯号系统芯片–非挥发性内存(NVM)的可用性也进一步加强。因此，这是一个为智能型驱动与模拟IC所设计的绝佳技术。” 新式的XP018是汽车电子验证过的工艺–X-FAB的标准功能–并提供全面性的PDK支持与操作温度-40至175摄氏度的应用。 |