结终端扩展(JTE)技术最早由A.K.Temple等人提出,其作用是控制高压器件的表面电场。最早的JTE为横向变掺杂技术将终端区分为多区,靠近主结的JTE区保持较高的浓度,以减弱主结电场,最外区保持较低的浓度,从而降低自身的电场强度,这种工艺难度大而且复杂,不适用于批量生产。
可采用多区变化终端窗口设计,即越靠近主结的区域,环设计较宽;离主结越远,终端环设计越窄。通过多种实验优化,如800V器件的JTE窗口设计分别为4.5μm、4μm、3.5μm、3μm、2.5μm、2μm、1μm。实践证明,该结构可以起到分开优化表面电场和体内电场的作用,从而提高击穿电压。利用结终端扩展技术,可以相对于场限环减小终端面积,从而降低成本。
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